在蒙特卡洛模拟中测量均方位移是否不常见?我很想知道这是否真的被尝试过。例如,在周期性模拟框中的球体或圆柱形粒子的上下文中,我们有我们通常的蒙特卡罗平移和旋转移动。所以一个粒子随机选择和移动(平移或旋转),这在一个蒙特卡罗循环中是粒子的数量。
所以我们可以在每个循环之后,甚至每次位移移动之后,也可以计算相对于系统初始配置的 MSD。例如具有每个圆柱体的,以及它们各自的方向向量在每次移动之后,我们可以通过以下方式更新沿着圆柱体方向的 MSD:
并且沿平行方向的总 msd 被更新(即递增)其中是所选圆柱体在时间 0 的方向向量(因此是初始条件)。由此,我想我们可以将垂直于长轴的贡献写成 msd 为,。
最终,从 MC 模拟期间计算的 MSD 曲线中,我们将提取扩散特性等。我想知道,这在蒙特卡洛模拟中是否有意义?有没有在某处讨论过这个的有效性?到目前为止,我还没有找到任何关于此的工作,很想知道是否真的有任何工作。